ASML прогнозує відставання Китаю у виробництві чипів

Uncategorized

Обмеження США на експорт до Китаю літографічних машин для виробництва напівпровідників, запроваджені для стримування технологічного розвитку КНР, суттєво уповільнять прогрес китайської напівпровідникової галузі та її здатність конкурувати на глобальному ринку.

За словами генерального директора ASML Крістофа Фуке, ці санкції можуть відкинути Китай на 10-15 років у сфері розробки передових чипів.

ASML, як провідний виробник літографічного обладнання, зокрема технологій екстремальної ультрафіолетової (EUV) літографії, опинилася в центрі цього конфлікту. Обмеження завдали удару по виручці компанії, водночас загрожуючи розривом ділових відносин із Китаєм, важливим ринком збуту. Ситуацію ускладнює наполягання США на припиненні обслуговування вже поставленого обладнання, що викликає занепокоєння ASML щодо можливого розкриття технологічних секретів.

Китай, своєю чергою, посилює зусилля з розробки власних літографічних технологій і шукає альтернативних партнерів. Водночас, як зауважує Фуке, досягнення успіху в цій галузі потребує не лише фінансових інвестицій, але й десятиліть досліджень, інновацій та вирішення складних технічних завдань.

Для глобального напівпровідникового ринку обмеження США можуть мати далекосяжні наслідки. Генеральний директор ASML підкреслив важливість балансу серед ключових гравців, таких як Samsung та Intel, для підтримання технологічного прогресу. Особливе значення він надає відновленню конкурентоспроможності Intel, що є важливим фактором для збереження технологічного лідерства США.

Санкції США спрямовані на обмеження доступу Китаю до передових технологій, щоб уникнути їх можливого використання у військових цілях. Однак це також стимулює КНР до прискореного розвитку власної інноваційної бази та пошуку нових шляхів подолання технологічних бар’єрів. Результати цієї стратегічної боротьби визначатимуть майбутнє напівпровідникової індустрії на десятиліття вперед.

#ASML #прогнозує #відставання #Китаю #виробництві #чипів

Source link

Оцініть статтю